陈怀庆抬头看向赵建胜：“各位领导，你们确定给我看的资料，没有掺假？”

        第一台光刻机落地于60年代中后期，

        1980年自动对准分布投影光刻机研制成功，加工最细线宽为0.8微米。

        此时在国内，光刻机研发团队还真的不少，不像是最后，就剩下申城微电子一个独苗。

        109厂是高技术半导体器件和集成电路研制生产中试厂。

        赵建胜嗤笑一声：“怎么，很惊讶？”

        陈怀庆：“不仅仅是惊讶，还很难以置信。本来，我以为我们的光刻机技术很落后，可却没有想到，国家已经发展到了这个程度。”

        此时国内的光刻机技术和世界最先进水平相比，差距绝对不会太大，可能也就在五年内。

        不像是到了21世纪之后，这个差距被拉大到了四代。

        到了EUV光刻机，光刻机才是第五代！

        也就是说，此时国内的光刻机水平处在第二代。

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